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珠海:重点发展8英寸、12英寸硅片等新一代化合物半导体衬底材料及外延片
【珠海:重点发展8英寸、12英寸硅片等新一代化合物半导体衬底材料及外延片】 珠海市工业和信息化局公开征求 《珠海市电子化学品产业发展三年行动方案(2025—2027年)(征求意见稿)》 意见。其中提到,重点发展8英寸、12英寸硅片,碳化硅、氮化镓、磷化铟等新一代化合物半导体衬底材料及外延片;前瞻布局氧化镓、锑化镓、锑化铟等第四代半导体材料。同时,重点发展匀胶铬版光掩模版,KrF、ArF移项光掩模版,前瞻布局深紫外光(DUV)掩膜版。