在当今高精尖的芯片制造领域，要想踏入先进芯片制造的大门，拥有一台高性能的光刻机是必经之路。芯片制程越来越先进，对光刻机的性能，自然就提出了近乎苛刻的要求。这意味着光刻机需要具备更加卓越的精度、稳定性以及对复杂工艺的适应性。可想而知，光刻机制造难度非常大，步步艰辛。它有EUV与DUV之分，其中，EUV光刻机，站在了芯片制造技术的最顶端。然而，高处不胜寒，它背后所需要的制造技术极其复杂，涉及到光学、机械、电子等多学科最前沿科技，这也使得它成为了中国科技发展路上最难啃的硬骨头，是我们不得不直面的技术短板。近日，一则振奋人心的消息传来，哈工大潜心研发的…… 查看全文

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